耀穎光電 は、半導体リソグラフィ プロセスと精密光学コーティング設計を統合し、顧客が必要とするさまざまな光学帯域を 1 つのチップに統合します。設計できる光の波長帯には、紫外光、可視光、近赤外光、遠赤外光があります。 お客様のプロセス要件に応じて、物理蒸着法またはスパッタリング蒸着法を使用して光学多層膜を形成します。耀穎光電は、半導体製造プロセスを使用してパターン化された光学コーティングを製造しており、プロセスの精度と品質管理において比較優位を持っています。 利用可能なファウンドリー ウェーハ サイズには、6 インチ、8 インチ、および 12 インチが含まれます。

精密光学に関しては、元の一般的な従来の光学コーティングに加えて、耀穎光電には、精密光学に関して 3 つの主要な利点があります。

• 1. RGBIR センサーに適用される吸収材料
• 2. パターン化されたフィルター
• 3. DGF (デジタル グラディエント フィルター)

集光効率を向上させるために、耀穎光電はリフロー マイクロレンズ技術を採用して、最小 3 ミクロンから最大 50 ミクロンのピクセル設計を実現しています。

耀穎光電のリソグラフィー プロセスは、産業の光学薄膜およびウェーハ半導体光学ファウンドリーで使用できます。

• 1. 6 インチ、8 インチ、12 インチの半導体光学ファウンドリ
• 2. 8"、12" リソグラフィ、エッチング ファウンドリー
• 3. 玻璃微結構